आण्विक बीम एपिटॅक्सी उच्च व्हॅक्यूम किंवा अल्ट्रा-हाय व्हॅक्यूममध्ये चालविली गेली (1 x 10^-8पीए) वातावरण. आण्विक बीम एपिटॅक्सीचा सर्वात महत्वाचा पैलू म्हणजे त्याचा कमी साठा दर आहे, जो सहसा प्रति तास 000००० एनएमपेक्षा कमी दराने फिल्मला एपिटॅक्सियल वाढू देतो. अशा कमी ठेवण्याच्या दरासाठी इतर जमा पद्धतीप्रमाणेच स्वच्छतेची समान पातळी गाठण्यासाठी उच्च प्रमाणात व्हॅक्यूम आवश्यक आहे.

वर वर्णन केलेल्या अल्ट्रा-हाय व्हॅक्यूमची पूर्तता करण्यासाठी, एमबीई डिव्हाइस （नूडसन सेल） मध्ये एक थंड थर आहे आणि ग्रोथ चेंबरचे अल्ट्रा-उच्च व्हॅक्यूम वातावरण द्रव नायट्रोजन अभिसरण प्रणालीचा वापर करून राखले जाणे आवश्यक आहे. लिक्विड नायट्रोजन डिव्हाइसचे अंतर्गत तापमान 77 केल्विन (−196 डिग्री सेल्सियस) पर्यंत थंड करते. कमी तापमानाचे वातावरण व्हॅक्यूममधील अशुद्धतेची सामग्री कमी करू शकते आणि पातळ चित्रपटांच्या जमा करण्यासाठी अधिक चांगली परिस्थिती प्रदान करू शकते. म्हणूनच, एमबीई उपकरणांना -196 डिग्री सेल्सियस लिक्विड नायट्रोजनचा सतत आणि स्थिर पुरवठा करण्यासाठी समर्पित लिक्विड नायट्रोजन कूलिंग सर्कुलेशन सिस्टम आवश्यक आहे.